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专利名称：一种具有屏障结构的类器官模型及其构建方法

专利类型：发明专利

专利申请号：CN202310548218.X

专利申请（专利权）人：武汉大学
权利人地址：湖北省武汉市武昌区八一路299号

专利发明（设计）人：陈璞,朱黎黎,赵稳

专利摘要：本发明公开了一种具有屏障结构的类器官模型及其构建方法，所述方法包括：获得具有屏障结构的类器官芯片，包括：细胞培养板；设于所述细胞培养板内的集成式微孔组件，从上到下依次包括：上层元件、多孔膜和下层元件；所述上层元件包括第一和第二中空件，所述第一中空件被所述第二中空件分隔成左右两个培养基储液池，所述第二中空件底部设有所述多孔膜形成培养基加液池；所述下层元件呈中空形，所述左右两个培养基储液池的底部通过所述下层元件形成培养基灌流通道。将多种屏障细胞依次接种在所述多孔膜的上下侧，将类器官加载至培养基加液池中，将所述芯片放置于翘板摇床上长期动态培养。简化了流体实施条件，提高了具有屏障结构的类器官模型的仿生性与保真度。

主权利要求：
1.一种具有屏障结构的类器官模型的构建方法，其特征在于，所述方法包括：
获得具有屏障结构的类器官芯片，包括：细胞培养板和设于所述细胞培养板内的集成式微孔组件，所述集成式微孔组件从上到下依次包括：上层元件、多孔膜和下层元件；所述上层元件包括第一中空件和第二中空件，所述第一中空件的其中一对相对设置的侧壁均抵接于所述细胞培养板的内壁，所述第一中空件的中部卡接有所述第二中空件，所述第二中空件将所述第一中空件分隔成左培养基储液池和右培养基储液池，所述第二中空件的底部设有所述多孔膜形成培养基加液池；所述下层元件呈中空形且所述下层元件外形与所述第一中空件的外周形状相适配，所述下层元件的中部上表面用于支撑所述多孔膜，所述左培养基储液池的底部和所述右培养基储液池的底部通过所述下层元件的底部相连通形成培养基灌流通道；所述第一中空件的高度为2～15mm；所述下层元件的高度为0.5～3mm；所述
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多孔膜的厚度为5～20μm，孔隙大小为0.1～3μm，孔隙率为1×10～5×10孔/cm；
将所述具有屏障结构的类器官芯片灭菌后，对所述多孔膜进行包被处理；将内皮细胞培养基与用于增强屏障结构的细胞的培养基按照1:9?4:6的体积比配制，获得条件培养基；
将内皮细胞接种在所述包被后的多孔膜的一侧，用于增强屏障结构的细胞接种至所述包被后的多孔膜的另一侧，使用所述条件培养基将内皮细胞和用于增强屏障结构的细胞共培养；
所述共培养12～72h后，将类器官加载至所述芯片的培养基加液池中，分别向所述培养基储液池和所述培养基加液池中添加所述条件培养基与类器官成熟的培养基，后置于精密翘板摇床上进行功能化屏障结构与类器官的长期动态共培养，获得具有屏障结构的类器官模型；
其中，所述用于增强屏障结构的细胞包括周细胞、星形胶质细胞、脉络从上皮细胞、神经元细胞中的一种；向所述培养基加液池中添加的类器官的类型包括大脑类器官、胎盘类器官、肿瘤类器官、睾丸类器官中的一种。
2.根据权利要求1所述的一种具有屏障结构的类器官模型的构建方法，其特征在于，所
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述将内皮细胞接种在所述包被后的多孔膜的一侧时，细胞接种的数量为0.5×10 ～3×10个细胞/微孔，接种后所述培养基储液池的液体体积为0.3～1.5mL；
所述用于增强屏障结构的细胞接种至所述包被后的多孔膜的另一侧时，细胞接种的数
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量为1×10～1×10个细胞/微孔，接种后所述培养基加液池的液体体积为200～800μL。
3.根据权利要求2所述的一种具有屏障结构的类器官模型的构建方法，其特征在于，所述内皮细胞或用于增强屏障结构的细胞在接种中，采用细胞悬液或细胞悬液与基质材料混合后的混合液进行接种，采用细胞悬液与基质材料混合后的混合液接种后于37℃培养箱中
3～8min凝固成胶，所述基质材料包括琼脂糖、聚乙二醇和海藻酸钠中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的一种具有屏障结构的类器官模型的构建方法，其特征在于，将所述芯片进行包被处理后，对所述芯片的背景电阻值或多孔膜渗透性进行测定。
5.一种采用权利要求1?4任一项所述方法制备得到的具有屏障结构的类器官模型。
6.根据权利要求5所述的具有屏障结构的类器官模型，其特征在于，所述屏障结构包括血?脑屏障、血?脑脊液屏障、脑脊液?脑屏障、血?肿瘤屏障、胎盘屏障、血?睾屏障中的至少一种；所述类器官包括大脑类器官、胎盘类器官、肿瘤类器官、睾丸类器官中的一种。
7.一种权利要求1中的具有屏障结构的类器官芯片，其特征在于，所述具有屏障结构的类器官芯片包括：细胞培养板；
集成式微孔组件，设于所述细胞培养板内；所述集成式微孔组件从上到下依次包括：上层元件、多孔膜和下层元件；所述上层元件包括第一中空件和第二中空件，所述第一中空件的其中一对相对设置的侧壁均抵接于所述细胞培养板的内壁，所述第一中空件的中部卡接有所述第二中空件，所述第二中空件将所述第一中空件分隔成左培养基储液池和右培养基储液池，所述第二中空件的底部设有所述多孔膜形成培养基加液池；所述下层元件呈中空形且所述下层元件外形与所述第一中空件的外周形状相适配，所述下层元件的中部上表面用于支撑所述多孔膜，所述左培养基储液池的底部和所述右培养基储液池的底部通过所述下层元件形成培养基灌流通道，所述第一中空件的高度为2～15mm；所述下层元件的高度为
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0.5～3mm；所述多孔膜的厚度为5～20μm，孔隙大小为0.1～3μm，孔隙率为1×10～5×102
孔/cm。 说明书 : 一种具有屏障结构的类器官模型及其构建方法技术领域[0001] 本发明涉及组织工程和类器官芯片技术领域，特别涉及一种具有屏障结构的类器官模型及其构建方法。背景技术[0002] 据联合国卫生组织估算，目前全世界有近六分之一的人患有中枢神经系统(Centralnervoussystem,CNS)疾。怨Ｈ、脑出血、脑膜炎、脱髓鞘疾病和神经退行性变等。患有CNS疾病的患者需要长期服用中枢神经系统药物，治疗神经功能障碍或缓解神经退化进程，CNS药物的市场规模也因此快速扩大。中国CNS药物的销售额已从2015年的1440亿元增长至2019年的2043亿元，年复合增长率为9.1％，预计2020年至2024年将以4.6％的年复合增长率进一步增长，在2024年达到2509亿元。[0003] 然而，CNS药物市场相比其他治疗领域表现出高风险、高收益的特征。临床试验显示，CNS药物的研发非常困难，从临床一期到上市的成功率仅为8.4％，总体的研发成功率仅有6.2％，获得美国食品和药物管理局(FDA)批准的时间长达19.3月。2009至2011年间，10家大型制药公司公开可见的临床CNS项目数量下降了50％，用于新药研发的风险投资减少了56％，用于神经病学的风险投资减少了39％，相比至下，肿瘤学减少了不到5％。[0004] 具体来说，CNS药物研发的难点主要在于：1、许多CNS疾病的准确病因及发病机制尚无定论，药物只能治标不能治本；2、现有的CNS临床前模型保真度低，导致研发的治疗靶点或方法在临床试验中成功率低；3、血脑屏障(Blood?brainbarrier,BBB)的高屏障特性阻碍外周静脉注射药物以可作用的药理浓度到达大脑，药物治疗效果难以真实反映；4、CNS药物常伴随较明显的副作用，易引起慢性脑炎、高血压、自杀倾向等。因此，迫切需要开发一种高保真的、具有血脑屏障的大脑模型来进行多种CNS疾病模型的构建、相关发病机制的研究，推动CNS药物的通透性测试、药效评价及药毒性评估等研发工作。[0005] 动物模型的大脑天然具有血脑屏障与大脑实质组织，但与人类大脑存在明显差异，是导致药物开发成功率低的主要因素之一。人脑与动物脑的重要区别在于脑容量、神经胶质、神经发生、皮层构成等方面。与人类相比，大多数动物的脑容量、胶质细胞与神经元的比率比较。窬⑸乃俣纫膊幌嗤。动物脑的皮层细胞类型高度保守，但在细胞比例、基因表达水平和层级分布等方面与人脑存在很大差异，不能完全地模拟反映人脑组织，所以许多脑科学的研究并不能在动物模型中找到答案。除此之外，动物模型还具有成本高、研发周期长以及道德和伦理问题等。因此，在体外构建一种人源的、具有血脑屏障结构的大脑模型是CNS药物开发的主要挑战。[0006] 体外血脑屏障模型从Transwell系统发展至新兴的器官模型，可以实现BBB细胞的接触培养和血流剪切力的模拟，具有成本低、易操作、条件可控等优点，可用于屏障的病理生理研究和药物的渗透性测试。大脑类器官是大脑实质的优秀代表，由干细胞通过自组织分化形成微尺度脑组织，具有多种神经细胞类型和特定的三维组织结构，可模拟CNS疾病的病理表型，进行药物药效评估和毒性测试，具有成本低、易操作、条件及微环境可控、伦理风险低等优点。[0007] 器官芯片技术与类器官技术应用广泛，但具有血脑屏障的人源大脑类器官模型仍未有研究报道，其原因可能在于：1、多种BBB细胞类型的共培养体系复杂，BBB结构不能长期保持人类生理相关的屏障功能；2、大脑类器官与BBB结构的培养系统差异较大、共培养体系难以搭建，共培养过程中大脑类器官的生物学形态结构及生理功能难以保证；3、BBB结构与大脑类器官在长期动态共培养中的稳态维持问题等。[0008] 简而言之，我们可以筛选一种共培养BBB细胞的条件培养基，有助于实现BBB结构的功能化。进一步地，通过搭建一个BBB与大脑类器官的共培养体系，可以进行功能化BBB结构与人源大脑类器官的长期稳态共培养，解决大脑类器官缺乏BBB结构、功能化BBB缺乏大脑实质组织的局限性。我们开发的一种人源的、具有血脑屏障的大脑类器官模型，对于推动CNS药物的通透性测试、药物药效评价及药物毒性测试的相关研究具有重要意义。发明内容[0009] 本发明目的是提供一种具有屏障结构的类器官模型和构建方法，实现功能化BBB结构的构建、人源大脑类器官的悬浮维持培养。通过将功能化BBB结构与人源大脑类器官进行长期稳态共培养，解决了人源大脑类器官缺乏BBB结构、功能化BBB缺乏大脑实质组织的局限性。进一步简化流体实施条件，提高大脑血脑屏障模型的仿生性与保真度，该模型有助于推进CNS药物渗透性、药效评估及毒性评价的测试或研究。[0010] 为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：[0011] 在本发明的第一方面，提供了一种具有屏障结构的类器官模型的构建方法，所述方法包括：[0012] 获得具有屏障结构的类器官芯片，包括：细胞培养板和设于所述细胞培养板内的集成式微孔组件，所述集成式微孔组件从上到下依次包括：上层元件、多孔膜和下层元件；所述上层元件包括第一中空件和第二中空件，所述第一中空件的其中一对相对设置的侧壁均抵接于所述细胞培养板的内壁，所述第一中空件的中部卡接有所述第二中空件，所述第二中空件将所述第一中空件分隔成左培养基储液池和右培养基储液池，所述第二中空件的底部设有所述多孔膜形成培养基加液池；所述下层元件呈中空形且所述下层元件外形与所述第一中空件的外周形状相适配，所述下层元件的中部上表面用于支撑所述多孔膜，所述左培养基储液池的底部和所述右培养基储液池的底部通过所述下层元件的底部相连通形成培养基灌流通道；[0013] 将所述具有屏障结构的类器官芯片灭菌后，对所述多孔膜进行包被处理；将内皮细胞培养基与用于增强屏障结构的细胞的培养基按照1:9?4:6的体积比配制，获得条件培养基；将内皮细胞接种在所述包被后的多孔膜的一侧，用于增强屏障结构的细胞接种至所述包被后的多孔膜的另一侧，使用所述条件培养基将内皮细胞和用于增强屏障结构的细胞共培养；[0014] 所述共培养12～72h后，将类器官加载至所述具有屏障结构的类器官芯片的培养基加液池中，分别向所述培养基储液池和所述培养基加液池中添加所述条件培养基与类器官成熟的培养基，后置于精密翘板摇床上进行功能化屏障结构与类器官的长期静态或动态共培养，获得具有屏障结构的类器官模型。[0015] 在本发明的第二方面，提供了一种采用所述方法制备得到的具有屏障结构的类器官模型。[0016] 在本发明的第三方面，提供了一种有屏障结构的大脑类器官芯片，其特征在于，所述具有屏障结构的大脑类器官芯片包括：[0017] 细胞培养板；[0018] 集成式微孔组件，设于所述细胞培养板内；所述集成式微孔组件从上到下依次包括：上层元件、多孔膜和下层元件；所述上层元件包括第一中空件和第二中空件，所述第一中空件的其中一对相对设置的侧壁均抵接于所述细胞培养板的内壁，所述第一中空件的中部卡接有所述第二中空件，所述第二中空件将所述第一中空件分隔成左培养基储液池和右培养基储液池，所述第二中空件的底部设有所述多孔膜形成培养基加液池；所述下层元件呈中空形且所述下层元件外形与所述第一中空件的外周形状相适配，所述下层元件的中部上表面用于支撑所述多孔膜，所述左培养基储液池的底部和所述右培养基储液池的底部通过所述下层元件的底部相连通形成培养基灌流通道。[0019] 进一步地，所述第一中空件的高度为2～15mm；所述下层元件的高度为0.5～3mm。[0020] 进一步地，所述多孔膜的厚度为5～20μm，孔隙大小为0.1～3μm，孔隙率为1×1056 2～5×10孔/cm。[0021] 本发明实施例中的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：[0022] 1、本发明提供的一种具有屏障结构的类器官芯片集成了人功能性的血脑屏障结构和人源大脑类器官，解决了现有血脑屏障模型的物种差异性问题，一定程度上重现了脑实质的复杂细胞类型与组织结构。[0023] 2、本发明通过设计上、下层元件与多孔膜形成夹层结构组件的芯片，便于在多孔膜两侧共培养血脑屏障细胞，在上层元件与多孔膜形成的培养基加液池中培养大脑类器官，实现二者的长期稳态共培养，简化了芯片的构建、组装和应用方法。[0024] 3、本发明通过设计基底、培养基储液池、培养基灌流通道以及培养基加液池，依靠精密翘板摇床提供重力流，有利于在下层元件与基底间形成双向的流体流动，避免了设计复杂的流体通道和使用多种灌流设备，简化了流体实施条件。[0025] 4、本发明以细胞培养板的培养孔为基底，有利于维持细胞和大脑类器官的活性，生物相容性更强，适用于大规模生产。[0026] 5、本发明设计的芯片结构简单、便于组装，简化了具有屏障结构的类器官模型的构建流程，便于相关领域人员操作，用户友好性高，具有巨大的应用前景和商业价值。附图说明[0027] 为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。[0028] 图1为本发明中具有屏障结构的类器官芯片的装置示意图；[0029] 附图标记如下：[0030] 1、细胞培养板；[0031] 2、集成式微孔组件；21、上层元件；211、第一中空件；212、第二中空件；22、多孔膜；23、下层元件；[0032] 3、左培养基储液池；[0033] 4、右培养基储液池；[0034] 5、培养基加液池；[0035] 6、培养基灌流通道；[0036] 图2为本发明中具有屏障结构的类器官芯片的组装示意图；[0037] 图3为本发明中具有屏障结构的类器官芯片的营养物质扩散分布图；[0038] 图4为本发明中具有屏障结构的类器官模型的培养方案；[0039] 图5为本发明中条件培养基对血脑屏障细胞的影响；其中，图5A为条件培养基对人脑微血管内皮细胞的活性影响；图5B为条件培养基下人脑微血管内皮的RT?qPCR鉴定；图5C为条件培养基对血管周细胞的活性影响；图5D为条件培养基下血管周细胞的RT?qPCR鉴定；图5E为条件培养基下人脑微血管内皮的免疫荧光鉴定；图5F为条件培养基下血管周细胞的免疫荧光鉴定；[0040] 图6为本发明中血脑屏障细胞与大脑类器官共培养的明场成像；其中，图6A为人脑微血管内皮细胞单层的明场成像；图6B为人脑微血管内皮单层与血管周细胞单层的明场成像；图6C为具有血脑屏障的大脑类器官的明场成像；图6D为人脑微血管内皮单层与大脑类器官的明场成像；[0041] 图7为本发明中具有血脑屏障的大脑类器官模型中血脑屏障的免疫荧光分析；其中，图7A?B为人脑微血管内皮细胞的免疫荧光分析；图7C为人脑血管周细胞的免疫荧光分析；图7D为人脑微血管内皮细胞与人脑血管周细胞的免疫荧光组合图像分析；[0042] 图8为本发明中具有血脑屏障的大脑类器官模型中血脑屏障的功能分析；其中，图8A为血脑屏障的电阻值变化趋势；图8B为血脑屏障的大分子渗透能力；图8C为血脑屏障的小分子渗透能力；[0043] 图9为本发明中具有血脑屏障的大脑类器官模型中血脑屏障的功能基因的RT?qPCR分析；其中，图9A?B为血脑屏障的紧密连接表达；图9C?D为血脑屏障的周细胞功能基因表达；[0044] 图10为本发明中具有血脑屏障的大脑类器官模型中人源大脑类器官的免疫荧光分析；其中，图10A为人源大脑类器官的细胞类型鉴定；图10B为人源大脑类器官的脑区结构鉴定；[0045] 图11为本发明中具有血脑屏障的大脑类器官模型中人源大脑类器官的RT?qPCR分析；其中，图11A为人源大脑类器官的细胞类型鉴定；图11B为人源大脑类器官的脑区结构鉴定；[0046] 图12为具有屏障结构的类器官芯片包被后测定的背景电阻值的批次间差异数据。具体实施方式[0047] 下文将结合具体实施方式和实施例，具体阐述本发明，本发明的优点和各种效果将由此更加清楚地呈现。本领域技术人员应理解，这些具体实施方式和实施例是用于说明本发明，而非限制本发明。[0048] 在整个说明书中，除非另有特别说明，本文使用的术语应理解为如本领域中通常所使用的含义。因此，除非另有定义，本文使用的所有技术和科学术语具有与本发明所属领域技术人员的一般理解相同的含义。若存在矛盾，本说明书优先。[0049] 需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设于”另一个元件上，它可以直接在另一个元件上或者间接设在另一个元件上；当一个元件被称为是“连接于”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或间接连接至另一个元件上。[0050] 需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、下”、“前”、“后”、“第一”、“第二”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。[0051] 此外，在本申请的描述中，“多个”、“若干个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。[0052] 本发明实施例中BMECs的中文名称为人脑微血管内皮细胞；BVPs中文名称为人脑血管周细胞。[0053] 本发明提供的技术方案总体思路如下：[0054] 根据本发明实施例一种典型的实施方式，提供一种具有血脑屏障的大脑类器官芯片，如图1所示，包括：[0055] 细胞培养板1；集成式微孔组件2，设于所述细胞培养板1内；所述集成式微孔组件2从上到下依次包括：上层元件21、多孔膜22和下层元件23；所述上层元件22包括第一中空件211和第二中空件212，所述第一中空件211的其中一对相对设置的侧壁均抵接于所述细胞培养板1的内壁，所述第一中空件211的中部卡接有所述第二中空件212，所述第二中空件212将所述第一中空件211分隔成左培养基储液池3和右培养基储液池4，所述第二中空件212的底部设有所述多孔膜22形成培养基加液池5；所述下层元件23呈中空形且所述下层元件23外形与所述第一中空件211的外周形状相适配，所述下层元件23的中部上表面用于支撑所述多孔膜22，所述左培养基储液池3的底部和所述右培养基储液池4的底部通过所述下层元件23的底部相连通形成培养基灌流通道6。[0056] 如图1所示，本发明使用时通过将BMECs与用于增强屏障结构的细胞(例如BVPs)分别先后接种至多孔膜的两侧(下侧与上侧，或者上侧与下侧)，多孔膜与细胞培养板的基底形成灌流通道，通过精密翘板摇床的重力作用为下层或上层的BMECs单层提供流体流动，以模拟体内脑微血管血流及其施加到内皮管腔上的流体剪切力，解决现有体外BBB模型的灌流通道及流体实施条件复杂的局限性。将人脑微血管内皮细胞(BMECs)与用于增强屏障结构的细胞(例如BVPs)在动态条件下进行长期共培养，可以形成功能性的BBB(大脑血液和脑实质之间的高度选择性的屏障)结构。上层元件设于多孔膜上以形成培养基加液池，向培养基加液池中添加具有复杂脑实质细胞类型及三维结构特征的人源大脑类器官，长期稳态共培养功能性BBB结构与人源大脑类器官，可以形成具有BBB的大脑类器官模型，解决现有体外BBB模型缺乏脑实质结构的问题。[0057] 上述技术方案中，细胞培养板1包括48孔板、24孔板、12孔板、6孔板、3.5cm培养皿、6cm培养皿、10cm培养皿、载玻片的一种。本发明是对市面上常见的细胞培养板进行加工获得，符合生物学者的操作习惯，同时可兼容各式光学仪器。[0058] 上述技术方案中，集成式微孔组件的制造方法为，使用PDMS将上层元件第二中空件的空心横截面与多孔膜进行粘连，随后再与下层元件的中间上表面横截面粘连，多孔膜依靠固化后的PDMS嵌在上层元件与下层元件之中。[0059] 所述技术方案中，所述第一中空件的其中一对相对设置的侧壁均抵接于所述细胞培养板的内壁，因此，由于细胞培养板均圆形，所以，所述第一中空件的其中一个相对设置的两侧壁的形状均为与所述细胞培养板相适应的弧形。所述第一中空件的其中另外一个相对设置的两侧壁的形状不限，可以为直线型、波浪形、圆弧形均可。[0060] 由于所述下层元件呈中空形且所述下层元件外形与所述第一中空件的外周形状相适配，所以所述下层元件其中一个相对设置的两侧壁的形状均为与所述细胞培养板相适应的弧形。[0061] 作为一种具体的实施方式，所述第二中空件的空心横截面呈圆环形、椭圆环形、半圆环形、扇环形、三角环形、四边环形、五边环形、六边环形和任意多边环形的一种。所述第二中空件卡接在所述第一中空件的中部，即：若所述第二中空件呈圆环形，所述第一中空件不与细胞培养板相抵接的两个侧壁呈直线型，则所述第二中空件内切于所述第一中空件。[0062] 作为一种优选的实施方式，所述第一中空件的高度为2～15mm；因此所述第二中空件的高度也为2～15mm，且所述第一中空件的高度等于所述第二中空件的高度。所述第一中空件的高度若低于2mm，有无法形成培养基加液池的不利影响；若高于15mm，有无法与细胞培养板孔高适配的不利影响；[0063] 作为一种优选的实施方式，所述下层元件的高度为0.5～3mm。所述高度若低于0.5mm，有难以通过精密翘板摇床形成流体流动的不利影响；若高于3mm，有难以通过精密翘板摇床选择流体流速的不利影响；下层元件由于有一定的高度，所述下层元件的中部上表面用于支撑所述多孔膜，多孔模的下方离细胞培养板每个培养孔的底部还有一定高度，使得所述左培养基储液池的底部和所述右培养基储液池的底部相连通，形成培养基灌流通道；[0064] 作为一种优选的实施方式，所述第一中空件的相对的两个侧壁的直线距离均为10.2～34.8mm；所述下层元件的相对的两个侧壁的直线距离均为10.2～34.8mm。且所述第一中空件与所述下层元件的外形尺寸相同。[0065] 所述培养基储液池的形状不限，当所述上层元件的第二中空件的空心横截面呈圆环形时，所述培养基储液池为弓柱形，用于添加培养基；作为一种可选的实施方式，所述培养基储液池的长为3～12mm，宽为3～12mm，高为2.5～18mm；[0066] 所述培养基灌流通道为操场形，用于培养基的双向流动，长为10.2～34.8mm，宽为10.2～34.8mm，高0.5～3mm；[0067] 当所述上层元件的第二中空件的空心横截面呈圆环形时，所述培养基加样池为圆柱形，用于添加和移除培养基，直径为3～12mm，高度为2～15mm；[0068] 作为一种优选的实施方式，所述多孔膜的厚度为5～20μm，孔隙大小为0.1～3μm，5 6 2孔隙率为1×10～5×10孔/cm。所述多孔膜的作用为与细胞培养板基底形成灌流通道，允许培养基储液池的培养基通过且对多孔膜上下侧的细胞产生一定的流体剪切力，所述多孔膜的厚度若小于5μm，有在进行集成式微孔组件制造时易破裂的不利影响，若大于20μm，有阻碍屏障细胞相互接触的不利影响；[0069] 进一步地，上述集成式微孔组件的材料为具有良好生物相容性的亚克力(PMMA)板，也可以采用其他微孔板材料，例如聚碳酸酯(PC)、聚二甲基硅氧烷(PDMS)、纯玻璃等材料。[0070] 进一步地，上述多孔膜的材料为具有良好光学透性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)，也可以采用其他多孔膜材料，例如聚四氟乙烯(PTFE)、聚碳酸酯(PC)、氟乙烯聚合物(FEP)、玻璃纤维膜、醋酸纤维膜等。[0071] 作为一种具体的实施方式，所述具有屏障结构的类器官芯片的制备方法包括：[0072] 步骤1、对于不同的人源细胞类型或其他培养物的大。谰萜涑叽缤ü鼵AD软件设计相应的微孔板上、下层元件；[0073] 步骤2、使用激光雕刻技术或者数控机床雕刻技术加工PMMA板制作上、下层元件；[0074] 步骤3、将多孔膜按照上层元件的中心形状进行裁剪；[0075] 步骤4、使用PDMS将PMMA上、下层元件与多孔膜进行粘连组装为夹层结构组件，进一步将夹层结构组件的下层元件侧粘连至细胞培养板中成为微孔板；[0076] 步骤5、微孔板结构包括基底、培养基储液池、培养基灌流通道以及培养基加液池；[0077] 步骤6、使用COMSOL软件对设计的芯片进行建模，并进行芯片中流体流动、流速和物质扩散的仿真验证，确定芯片中有稳定的流体流动和生理相关的流体剪切力，并且分隔上下层腔室的多孔膜能够实现物质扩散。[0078] 步骤7、将集成式微孔组件紫外灭菌48h，验漏4h，用于验漏的物质包括PBS、染料、色素、荧光素、墨水等；[0079] 步骤8、向微孔板的下层通道中灌注明胶溶液，使液体依靠表面张力停留在微孔板基底与多孔膜之间，微孔板的多孔膜在37℃培养箱中包被2?4h；[0080] 步骤9、移除微孔板中的明胶溶液，微孔板置于生物安全柜或超净工作台上风干20min；[0081] 根据本发明另一种典型的实施方式，提供了一种基于类器官芯片构建具有血脑屏障的大脑类器官模型的方法，包含以下步骤：[0082] 将所述大脑类器官芯片灭菌后，对所述多孔膜进行包被处理；将内皮细胞培养基与用于增强屏障结构的细胞的培养基按照1:9?4:6的体积比配制，获得条件培养基；将内皮细胞接种在所述包被后的多孔膜的一侧，用于增强屏障结构的细胞接种至所述包被后的多孔膜的另一侧，使用所述条件培养基将内皮细胞和用于增强屏障结构的细胞共培养；[0083] 所述共培养12～72h后，将类器官加载至所述具有屏障结构的类器官芯片的培养基加液池中，分别向所述培养基储液池和所述培养基加液池中添加所述条件培养基与类器官成熟的培养基，后置于精密翘板摇床上进行功能化屏障结构与类器官的长期静态或动态共培养，获得具有屏障结构的类器官模型。[0084] 上述技术方案中，[0085] 所述将内皮细胞接种在所述包被后的多孔膜的一侧时，细胞接种的数量为0.5×5 510～3×10个细胞/微孔，接种后所述培养基储液池的液体体积为0.3～1.5mL；[0086] 所述用于增强屏障结构的细胞接种至所述包被后的多孔膜的另一侧时，细胞接种5 4的数量为1×10～10×10个细胞/微孔，接种后所述培养基加液池的液体体积为200～800μL。[0087] 所述内皮细胞接种的数量为0.5×105～3×105个细胞/微孔，用于增强屏障结构的4 5细胞接种的数量为1×10～1×10个细胞/微孔的原因为：[0088] 若细胞数量过。焕诹街窒赴直鹂焖僭鲋承纬上赴ゲ悖蝗粝赴抗，不利于两种细胞单层的正常增殖和代谢。[0089] 当内皮细胞接种在所述包被后的多孔膜的上侧时，所述用于增强屏障结构的细胞接种至所述包被后的多孔膜的下侧；当内皮细胞接种在所述包被后的多孔膜的下侧时，所述用于增强屏障结构的细胞接种至所述包被后的多孔膜的上侧；[0090] 所述内皮细胞或用于增强屏障结构的细胞在接种中，采用细胞悬液或细胞悬液与基质材料混合后的混合液进行接种，采用细胞悬液与基质材料混合后的混合液接种后于37℃培养箱中3～8min凝固成胶，所述基质材料包括琼脂糖、聚乙二醇和海藻酸钠中的至少一种。加入基质材料混合的原因为：利于模拟体内细胞基底膜的结构、组成、物理特性和功能,促进屏障细胞的培养和分化。[0091] 所述用于增强屏障结构的细胞包括周细胞、星形胶质细胞、绒毛上皮细胞、脉络从上皮细胞、室管膜上皮细胞、小胶质细胞、少突胶质细胞、放射状胶质细胞、神经元细胞中的一种。当所述用于增强屏障结构的细胞为周细胞时，用于增强屏障结构的细胞的培养基即为周细胞培养基；[0092] 当内皮细胞接种在所述包被后的多孔膜的上侧时，所述用于增强屏障结构的细胞接种至所述包被后的多孔膜的下侧；当内皮细胞接种在所述包被后的多孔膜的下侧时，所述用于增强屏障结构的细胞接种至所述包被后的多孔膜的上侧。[0093] 向所述培养基加液池中添加的类器官的类型包括大脑类器官、胎盘类器官、肠道类器官、肾脏类器官、肿瘤类器官、睾丸类器官中的一种。[0094] 将所述芯片进行包被处理后，对所述芯片的背景电阻值或多孔膜渗透性进行测定，以确定芯片的批次间差异，便于进行后续的功能鉴定。[0095] 所述将内皮细胞培养基与用于增强屏障结构的细胞的培养基按照1:9?4:6的体积比配制，获得条件培养基对内皮细胞和用于增强屏障结构的细胞进行共培养可以仿生体内屏障的细胞组成与结构，并促进屏障结构的紧密性，所述体积比范围有利于提升多种屏障细胞的增殖能力和活性，简化屏障模型构建的流程。[0096] 下面将结合附图对本申请的一种具有屏障结构的类器官模型进行详细说明。[0097] 下面实施例中内皮细胞培养基购自Sciencell公司，货号1001；用于增强屏障结构的细胞的培养基购自Sciencell公司，货号1201；类器官(神经)成熟的培养基的配方为：DMEM/F1224mL，Neurobaselmedium24mL，N2supplement(100×)250μL，B27supplement(50×)500μL，GlutaMAX(100×)500μL，Humaninsulin2.5μg/mL，Non?essentialaminoacids(100×)250μL，Beta?mercaptoethanol25nM，Penicillin/streptomycin1％。[0098] 实施例1一种具有血脑屏障的大脑类器官模型和构建方法[0099] 一、具有血脑屏障的大脑类器官芯片[0100] 如图1所示，本发明实施例提供一种具有血脑屏障的大脑类器官芯片，包括：[0101] 细胞培养板1；集成式微孔组件2，设于所述细胞培养板1内；所述集成式微孔组件2从上到下依次包括：上层元件21、多孔膜22和下层元件23；所述上层元件22包括第一中空件211和第二中空件212，所述第一中空件211的其中一对相对设置的侧壁均抵接于所述细胞培养板1的内壁，所述第一中空件211的中部卡接有所述第二中空件212，所述第二中空件212将所述第一中空件211分隔成左培养基储液池3和右培养基储液池4，所述第二中空件212的底部设有所述多孔膜22形成培养基加液池5；所述下层元件23呈中空形且所述下层元件23外形与所述第一中空件211的外周形状相适配，所述下层元件23的中部上表面用于支撑所述多孔膜22，所述左培养基储液池3的底部和所述右培养基储液池4的底部通过所述下层元件23形成培养基灌流通道5。[0102] 本发明实施例中，[0103] 所述第二中空件的空心横截面呈圆环形。所述第一中空件的高度为8mm；所述下层元件的高度为1mm。所述第一中空件的相对的两个侧壁的直线距离均为21mm；所述下层元件的相对的两个侧壁的直线距离均为21mm。[0104] 所述多孔膜的厚度为12μm，孔隙大小为0.4μm，孔隙率为2×106孔/cm2。[0105] 二、具有血脑屏障的大脑类器官芯片的制备方法[0106] 步骤1、对于人源血脑屏障细胞类型及大脑类器官的大。谰萜涑叽缤ü鼵AD软件绘制相应的微孔板上、下层元件；[0107] 步骤2、使用激光雕刻技术或者数控机床雕刻技术加工PMMA板制作上、下层元件；[0108] 步骤3、将多孔膜按照上层元件的中心形状进行裁剪；[0109] 步骤4、使用PDMS将PMMA上、下层元件与多孔膜进行粘连组装为“三明治”夹层结构组件，进一步将夹层结构组件的下层元件侧粘连至细胞培养板中成为微孔板；[0110] 步骤5、微孔板结构包括基底、培养基储液池、培养基灌流通道以及培养基加液池；[0111] 步骤6、使用COMSOL软件对设计的芯片进行建模，并进行芯片中流体流动、流速和物质扩散的仿真验证，确定芯片中有稳定的流体流动和生理相关的流体剪切力，并且分隔上下层腔室的多孔膜能够实现物质扩散。[0112] 三、具有血脑屏障的大脑类器官模型的构建方法[0113] (1)将集成式微孔组件紫外灭菌48h，验漏4h，用于验漏的物质包括PBS、染料、色素、荧光素、墨水等；[0114] (2)向微孔板的灌流通道中添加明胶溶液，使液体依靠表面张力停留在微孔板基底与多孔膜之间，微孔板在37℃培养箱中包被2?4h；将所述芯片进行包被处理后，对所述芯片的背景电阻值或多孔膜渗透性进行测定，确定芯片的批次间差异，便于后续的功能鉴定。背景电阻值的批次间差异数据如图12所示；[0115] (3)移除微孔板中的明胶溶液，微孔板置于生物安全柜或超净工作台上风干20min；[0116] (4)将内皮细胞培养基与周细胞培养基按照2:8的比例配制成条件培养基，0.22μm过滤器过滤；所述内皮细胞培养基购买于Sciencell公司，货号为1001，周细胞培养基购买于Sciencell公司，货号为1201；[0117] (5)消化BMECs，使用条件培养基调整细胞浓度为1.5×105个细胞/微孔后接种至微孔板多孔膜的下侧；[0118] (6)待内皮细胞贴壁后，消化BVPs(人脑血管周细胞)，使用条件培养基调整细胞浓4度为5×10个细胞/微孔后接种至微孔板多孔膜的上侧；[0119] (7)待BMECs(人脑微血管内皮细胞)和BVPs共培养24h后，将人源大脑类器官加载至微孔板培养基加液池中，添加神经分化或神经成熟培养基；[0120] (8)BMECs、BVPs和大脑类器官在精密翘板摇床上进行长期动态共培养，培养基储液池和培养基灌流通道中每天更换条件培养基，培养基加液池中每天更换神经分化或神经成熟培养基。[0121] 实施例2[0122] 本发明实施例中，所述第一中空件的高度为2mm；所述下层元件的高度为0.5mm。其他结构和步骤均同实施例1。[0123] 实施例3[0124] 本发明实施例中，所述第一中空件的高度为15mm；所述下层元件的高度为3mm。其他结构和步骤均同实施例1。[0125] 实施例4[0126] 本发明实施例中，所述第一中空件的高度为2mm；所述下层元件的高度为0.5mm。所5 2述多孔膜的厚度为5μm，孔隙大小为0.1μm，孔隙率为1×10孔/cm。其他结构和步骤均同实施例1。[0127] 实施例5[0128] 本发明实施例中，所述第一中空件的高度为2mm；所述下层元件的高度为0.5mm。所6 2述多孔膜的厚度为20μm，孔隙大小为3μm，孔隙率为5×10孔/cm。其他结构和步骤均同实施例1。[0129] 实施例6[0130] 本发明实施例中，所述条件培养基为内皮细胞培养基与周细胞培养基比例4:6的混合培养基。其他结构和步骤均同实施例1。[0131] 实施例7[0132] 本发明实施例中，所述条件培养基为内皮细胞培养基与周细胞培养基比例1:9的混合培养基。其他结构和步骤均同实施例1。[0133] 实施例8[0134] 本发明实施例中，所述BMECs的接种浓度为5×104个细胞/微孔。其他结构和步骤均同实施例1。[0135] 实施例9[0136] 本发明实施例中，所述BMECs的接种浓度为3×105个细胞/微孔。其他结构和步骤均同实施例1。[0137] 实施例10[0138] 本发明实施例中，所述BVPs的接种浓度为1×104个细胞/微孔。其他结构和步骤均同实施例1。[0139] 实施例11[0140] 本发明实施例中，所述BMECs的接种浓度为1×105个细胞/微孔。其他结构和步骤均同实施例1。[0141] 实施例12[0142] 本发明实施例中，BVPs替换为星形胶质细胞。其他结构和步骤均同实施例1。[0143] 实施例13[0144] 本发明实施例中，BVPs替换为脉络丛上皮细胞。其他结构和步骤均同实施例1。[0145] 实施例14[0146] 本发明实施例中，BVPs替换为神经元。其他结构和步骤均同实施例1。[0147] 实施例15[0148] 本发明实施例中，向所述培养基加液池中添加的类器官的类型为胎盘类器官。其他结构和步骤均同实施例1。[0149] 实施例16[0150] 本发明实施例中，向所述培养基加液池中添加的类器官的类型为睾丸类器官。其他结构和步骤均同实施例1。[0151] 实施例17[0152] 本发明实施例中，向所述培养基加液池中添加的类器官的类型为肿瘤类器官。其他结构和步骤均同实施例1。[0153] 对比例1[0154] 对比例1中，第一中空件的高度为0.5mm；所述下层元件的高度为0.1mm。其他结构和步骤均同实施例1。[0155] 对比例2[0156] 对比例2中，第一中空件的高度为20mm；所述下层元件的高度为5mm。其他结构和步骤均同实施例1。[0157] 对比例3[0158] 对比例3中，所述多孔膜的厚度为2μm。其他结构和步骤均同实施例1。[0159] 对比例4[0160] 对比例4中，所述多孔膜的厚度30μm。其他结构和步骤均同实施例1。[0161] 对比例5[0162] 对比例5中，所述多孔膜的孔隙大小为8μm。其他结构和步骤均同实施例1。[0163] 对比例6[0164] 对比例6中，所述多孔膜的孔隙大小为12μm。其他结构和步骤均同实施例1。[0165] 对比例7[0166] 对比例7中，所述条件培养基为内皮细胞培养基与周细胞培养基比例5:5的混合培养基。其他结构和步骤均同实施例1。[0167] 对比例8[0168] 对比例8中，所述条件培养基为内皮细胞培养基与周细胞培养基比例9:1的混合培养基。其他结构和步骤均同实施例1。[0169] 对比例9[0170] 对比例9中，所述BMECs的接种浓度为1×104个细胞/微孔。其他结构和步骤均同实施例1。[0171] 对比例10[0172] 对比例10中，所述BMECs的接种浓度为5×105个细胞/微孔。其他结构和步骤均同实施例1。[0173] 对比例11[0174] 对比例11中，所述BVPs的接种浓度为5×103个细胞/微孔。其他结构和步骤均同实施例1。[0175] 对比例12[0176] 对比例12中，所述BVPCs的接种浓度为3×105个细胞/微孔。其他结构和步骤均同实施例1。[0177] 实验例1、[0178] 一、将各实施例和各对比例的具有屏障结构的类器官模型进行培养，方法如下：[0179] 1、芯片的制作与灭菌：使用CAD和激光雕刻机绘制并制造芯片的上层元件与下层元件，将多孔膜裁剪为上层元件第二中空件的形状，使用PDMS将上层元件、多孔膜、下层元件依次进行粘连，形成“三明治”状夹层结构的微孔板组件，并进一步使用PDMS将组件粘连至细胞培养板中。使用COMSOL软件对设计的芯片进行建模，并进行芯片中流体流动、流速和物质扩散的仿真验证，确定芯片中有稳定的流体流动和生理相关的流体剪切力，并且分隔上下层腔室的多孔膜能够实现物质扩散。通过紫外对芯片进行灭菌48h，使用缓冲液对芯片进行4h验漏操作。[0180] 2、功能化屏障结构的构建：使用0.1％Gelatin对多孔膜下侧进行包被。将1.5×510个细胞/微孔的BMECs悬液加入多孔膜与细胞培养板基底的空隙中，依靠液体表面张力4使悬液停留，在培养箱中倒置芯片4?6h促进细胞贴壁。随后将5×10 个细胞/微孔的用于增强屏障结构的BVPs悬液滴加至培养基加液池中，在培养箱中正置芯片4?6h，促进细胞贴附在多孔膜的上侧。将芯片放置在精密翘板摇床上依靠重力对多孔膜上的屏障细胞进行灌流培养。[0181] 3、具有屏障结构的类器官模型的构建：在BMECs与BVPs共培养24h后，将培养基加液池中的条件培养基去除。使用类器官成熟培养基将大脑类器官加载至培养基加液池中。放置芯片于精密翘板摇床上，在培养箱中进行长期的动态共培养，每天更换芯片培养基储液池中的条件培养基和培养基加液池中的类器官成熟培养基。[0182] 二、对上述实施例1?17和对比例1?12的具有血脑屏障的大脑类器官模型中的血脑屏障结构的屏障特性以及大脑类器官生物学形态维持效果进行评定，结果如表1所示；[0183] 表1[0184][0185][0186][0187][0188] 由表1可知，[0189] 对比例1中，第一中空件的高度为0.5mm，小于本发明实施例2～15mm的范围；所述下层元件的高度为0.1mm，小于本发明实施例0.5～3mm的范围，获得的屏障结构不具有屏障特性，类器官生物学形态无法维持；[0190] 对比例2中，第一中空件的高度为20mm，大于本发明实施例2～15mm的范围；所述下层元件的高度为5mm，大于本发明实施例2～15mm的范围，获得的屏障结构不具有屏障特性，类器官生物学形态无法维持；[0191] 对比例3中，所述多孔膜的厚度为2μm，小于本发明实施例5～20μm的范围，获得的屏障结构不具有屏障特性，类器官生物学形态无法维持；[0192] 对比例4中，所述多孔膜的厚度30μm，大于本发明实施例5～20μm的范围，获得的屏障结构不具有屏障特性，类器官生物学形态无法维持；[0193] 对比例5中，所述多孔膜的孔隙大小为8μm，大于本发明实施例0.1～3μm的范围，获得的屏障结构不具有屏障特性；[0194] 对比例6中，所述多孔膜的孔隙大小为12μm，大于本发明实施例0.1～3μm的范围，获得的屏障结构不具有屏障特性；[0195] 对比例7中，所述条件培养基为内皮细胞培养基与周细胞培养基比例5:5的混合培养基，不在本发明实施例1:9?4:6的体积比的范围，获得的屏障结构不具有屏障特性，类器官生物学形态无法维持；[0196] 对比例8中，所述条件培养基为内皮细胞培养基与周细胞培养基比例9:1的混合培养基，不在本发明实施例1:9?4:6的体积比的范围，获得的屏障结构不具有屏障特性，类器官生物学形态无法维持；[0197] 对比例9中，所述BMECs的接种浓度为1×104个细胞/微孔，小于本发明实施例0.55 5×10～3×10个细胞/微孔的范围，获得的屏障结构不具有屏障特性；[0198] 对比例10中，所述BMECs的接种浓度为5×105个细胞/微孔，大于本发明实施例0.55 5×10～3×10个细胞/微孔的范围，类器官生物学形态无法维持；[0199] 对比例11中，所述BVPs的接种浓度为5×103个细胞/微孔，小于本发明实施例为15 4×10～10×10个细胞/微孔的范围，获得的屏障结构不具有屏障特性；[0200] 对比例12中，所述BVPCs的接种浓度为3×105个细胞/微孔，大于本发明实施例为15 4×10～10×10个细胞/微孔的范围，类器官生物学形态无法维持。[0201] 本发明实施例1?实施例17获得的屏障结构具有屏障特性，类器官生物学形态可以维持7天左右。[0202] 实验例2、具有血脑屏障的大脑类器官模型的性能测定[0203] 1、采用实施例1的方法设计和制造的具有屏障结构的类器官芯片进行仿真模拟与验证。图3为本发明中芯片的物质扩散仿真结果，由图3可知，芯片通过多孔膜分隔的上下层腔室可以快速地实现物质扩散，满足后续模型构建中物质交换的基础条件。[0204] 2、采用实施例1的方法筛选的条件培养基进行细胞活性、细胞功能基因和细胞形态结构的鉴定。图5为本发明中条件培养基对BMECs和BVPs的细胞增殖活性、功能基因表达情况和细胞形态结构的影响，由图5可知，条件培养基可以显著促进2种细胞的活性，且不会明显影响2种细胞各自功能基因的表达及细胞形态结构，说明该条件培养基有助于构建功能化的BBB。[0205] 3、采用实施例1的方法培养的具有血脑屏障的大脑类器官进行成像。图6为本发明中血脑屏障细胞与类器官的明场成像结果，由图6可知BMECs和BVPs可以成功贴附至多孔膜上并正常生长，与血脑屏障结构长期共培养的人源大脑类器官仍能保持大脑类器官的基本形态，典型的神经花环结构可以维持，说明血脑屏障结构与人源类器官能够进行长期的稳态共培养。[0206] 4、采用实施例1的方法培养的具有血脑屏障的大脑类器官中进行血脑屏障免疫荧光成像。图7为本发明中BMECs和BVPs细胞的荧光成像结果，由图7可知BMECs和BVPs可以成功贴附至多孔膜上并正常生长，在多孔膜两侧形成单层结构，并表达对应的功能标志物，说明大脑类器官与BBB的长期共培养不会影响BBB的结构和功能。[0207] 5、采用实施例1的方法培养的具有血脑屏障的大脑类器官进行进行BBB的功能分析。图8为本发明中具有血脑屏障的大脑类器官中血脑屏障的功能分析结果，由图8可知具有血脑屏障的大脑类器官具有显著提升和长期维持屏障功能的能力，在分子渗透性方面具有更好、更一致地阻断能力。[0208] 6、采用实施例1的方法培养的具有血脑屏障的大脑类器官进行BBB功能基因的RT?qPCR分析(分析试剂：SYBRGreenReal?timePCRMasterMix；引物序列如表2)。[0209] 表2[0210][0211] 图9为本发明中具有血脑屏障的大脑类器官中血脑屏障的功能基因RT?qPCR结果，由图9可知具有血脑屏障的大脑类器官在内皮细胞标志物、血脑屏障紧密连接表达上与常规的大脑微血管内皮细胞没有差别，且显著提升了周细胞的功能基因表达水平。[0212] 7、采用实施例1的方法培养的具有血脑屏障的大脑类器官进行免疫荧光分析。图10为本发明中具有血脑屏障的大脑类器官中大脑类器官的免疫荧光分析结果，由图10可知与血脑屏障结构长期共培养的人源大脑类器官仍能正常概括大脑类器官的常规神经细胞类型，具有正常的大脑结构区域性标志物的表达。[0213] 8、采用实施例1的方法培养的大脑类器官进行RT?qPCR分析(分析试剂：SYBRGreenReal?timePCRMasterMix；引物序列如表3)。图11为本发明中具有血脑屏障的大脑类器官中大脑类器官的免疫荧光分析结果，由图11可知与血脑屏障结构长期共培养的人源大脑类器官仍能在转录水平上正常表达多种神经细胞和脑区结构的代表性功能基因。[0214] 表3[0215][0216][0217] 9、采用实施例1的方法测定包被后具有屏障结构的类器官芯片的背景电阻值。图12为背景电阻值的测量结果，由图12可知多批次芯片间的背景电阻值无显著性差异，说明芯片加工的一致性高，不会影响模型构建过程中功能表征的结果。[0218] 最后，还需要说明的是，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。[0219] 尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。[0220] 显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

专利地区：湖北

专利申请日期：2023-05-12

专利公开日期：2024-11-29

专利公告号：CN117384760B