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专利名称：一种用于硅片残片吸附的万向吸附装置

专利类型：发明专利

专利申请号：CN202410325761.8

专利申请（专利权）人：山东有研艾斯半导体材料有限公司
权利人地址：山东省德州市天衢新区东方红东路6839号

专利发明（设计）人：王占滨,陈信,潘世林,于兴瑞,闫志瑞,肖清华,梁海岗,梁鹏飞

专利摘要：一种用于硅片残片吸附的万向吸附装置，包括万向活动杆、与万向活动杆连接的吸附部件、控制吸附部件的吸附和释放的动力控制部件，其中，万向活动杆包括握把、与握把连接的活动杆一、通过夹紧轴与活动杆一连接的活动杆二，活动杆一与活动杆二之间的夹角可调；吸附部件包括气腔、以及设置在气腔上的真空快插接头、排水孔、压缩空气快插接头；动力控制部件包括压缩空气气源、三位五通阀，节流阀、真空发生器套组，压缩空气气源连接三位五通阀的进气孔，节流阀、真空发生器套组连接三位五通阀的出气孔；从节流阀延伸出的气管连接压缩空气快插接头，从真空发生器套组延伸出的气管连接真空快插接头。本发明能够实现硅片残片的快速且无吸附死角的吸附。

主权利要求：
1.一种用于硅片残片吸附的万向吸附装置，其特征在于：包括万向活动杆、与万向活动杆连接的吸附部件、控制吸附部件的吸附和释放的动力控制部件，其中，所述万向活动杆包括握把（103）、与握把（103）连接的活动杆一（104）、通过夹紧轴（108）与活动杆一（104）连接的活动杆二（106），活动杆一（104）与活动杆二（106）之间的夹角可调；
所述活动杆一（104）沿其轴向贯通且一端呈球形空腔，另一端为贯穿孔；顶杆一（105）安装在活动杆一（104）内部；
所述活动杆二（106）沿其轴向贯通且一端呈球形空腔，另一端为贯穿孔，顶杆二（107）安装在活动杆二（106）内部；
所述顶杆一（105）、顶杆二（107）的一端为锥形凸面结构，另一端为锥形凹面结构；
所述夹紧轴（108）的两端呈锥形斜面，中间为贯穿孔，所述夹紧轴（108）的两端分别设置梅花旋钮（109），两梅花旋钮（109）通过长螺栓连接，该两个梅花旋钮（109）的端部分别呈锥形斜面，当两个梅花旋钮（109）旋紧时，梅花旋钮（109）的锥形斜面与夹紧轴（108）的锥形斜面距离减。沟枚ジ艘唬105）、顶杆二（107）的锥形凸面与夹紧轴（108）的锥形斜面、梅花旋钮109）的锥形斜面相接触，实现活动杆一（104）与活动杆二（106）锁紧；
所述吸附部件包括气腔（201）及设置于气腔（201）的真空快插接头（202）、排水孔（203）、压缩空气快插接头（204）、真空吸盘（205）；
所述动力控制部件包括压缩空气气源（301）、三位五通阀（302），节流阀（303）、真空发生器套组（304），所述压缩空气气源（301）连接三位五通阀（302）的进气孔，节流阀（303）、真空发生器套组（304）连接三位五通阀（302）的出气孔；从节流阀（303）延伸出的气管连接压缩空气快插接头（204），从真空发生器套组（304）延伸出的气管连接真空快插接头（202）。
2.根据权利要求1所述的用于硅片残片吸附的万向吸附装置，其特征在于：所述握把（103）上安装有吸附按钮（101）和释放按钮（102），作为动力控制部件控制吸附和释放的开关。
3.根据权利要求1或2所述的用于硅片残片吸附的万向吸附装置，其特征在于：所述真空吸盘（205）安装在气腔（201）的壁面，所述真空快插接头（202）、压缩空气快插接头（204）安装在气腔（201）上与真空吸盘（205）相反侧的壁面；所述排水孔（203）安装在气腔（201）靠近端部位置的壁面上，开口朝下并通过内六角螺栓堵塞。
4.根据权利要求1或2所述的用于硅片残片吸附的万向吸附装置，其特征在于：
所述握把（103）的前端为球头结构，该球头结构嵌入活动杆一（104）的球形空腔并与顶杆一（105）的锥形凹面接触；
所述气腔（201）内部镂空，一端为球头结构，该球头结构嵌入活动杆二（106）的球形空腔并与顶杆二（107）的锥形凹面接触。
5.根据权利要求1或2所述的用于硅片残片吸附的万向吸附装置，其特征在于：所述三位五通阀（302）为中封式三位五通电磁阀。 说明书 : 一种用于硅片残片吸附的万向吸附装置技术领域[0001] 本发明涉及半导体工艺中硅片残片的吸附装置，具体涉及一种用于硅片残片吸附的万向吸附装置。背景技术[0002] 在半导体工艺中会产生硅片残片，需要利用吸附装置将硅片残片取出。现有硅片残片吸附装置利用小型真空泵产生真空，进行残片吸附，吸附完成后，管路内有残留真空，大概率导致硅片残片不能自动脱落，需要手动取下。另外，现有吸附装置一般是固定的，不可弯折及改变角度，导致在吸附硅片残片时费时、费力，且有时需人工进入设备内，给设备带来污染，或进入化学液槽体吸附硅片残片时给技术人员带来伤害。发明内容[0003] 基于以上现有技术中存在的问题，本发明的目的在于提供一种用于硅片残片吸附的万向吸附装置，以实现硅片残片无死角吸附，以及真空吸附与真空释放自动切换，从而提高安全性和作业效率。[0004] 为达到上述目的，本发明采用以下技术方案：[0005] 一种用于硅片残片吸附的万向吸附装置，该万向吸附装置包括万向活动杆、与万向活动杆连接的吸附部件、控制吸附部件的吸附和释放的动力控制部件，其中，[0006] 所述万向活动杆包括握把、与握把连接的活动杆一、通过夹紧轴与活动杆一连接的活动杆二，活动杆一与活动杆二之间的夹角可调；[0007] 所述吸附部件包括气腔及设置于气腔的真空快插接头、排水孔、压缩空气快插接头、真空吸盘；[0008] 所述动力控制部件包括压缩空气气源、三位五通阀，节流阀、真空发生器套组，所述压缩空气气源连接三位五通阀的进气孔，节流阀、真空发生器套组连接三位五通阀的出气孔；从节流阀延伸出的气管连接压缩空气快插接头，从真空发生器套组延伸出的气管连接真空快插接头。[0009] 进一步地，所述握把上安装有吸附按钮和释放按钮，作为动力控制部件控制吸附和释放的开关。[0010] 进一步地，所述真空吸盘安装在气腔的壁面，所述真空快插接头、压缩空气快插接头安装在气腔上与真空吸盘相反侧的壁面；所述排水孔安装在气腔靠近端部位置的壁面上，开口朝下并通过内六角螺栓堵塞。[0011] 进一步地，所述活动杆一沿其轴向贯通且一端呈球形空腔，另一端为贯穿孔；顶杆一安装在活动杆一内部；[0012] 所述活动杆二沿其轴向贯通且一端呈球形空腔，另一端为贯穿孔，顶杆二安装在活动杆二内部；[0013] 所述顶杆一、顶杆二的一端为锥形凸面结构，另一端为锥形凹面结构；[0014] 所述夹紧轴两端呈锥形斜面，中间为贯穿孔，所述夹紧轴的两端分别设置梅花旋钮，两梅花旋钮通过长螺栓连接，该两个梅花旋钮的端部分别呈锥形斜面，当两个梅花旋钮旋紧时，梅花旋钮的锥形斜面与夹紧轴的锥形斜面距离减。沟枚ジ艘、顶杆二的锥形凸面与夹紧轴的锥形斜面、梅花旋钮的锥形斜面相接触，实现活动杆一与活动杆二锁紧。[0015] 进一步地，所述握把的前端为球头结构，该球头结构嵌入活动杆一的球形空腔并与顶杆一的锥形凹面接触；[0016] 所述气腔内部镂空，一端为球头结构，该球头结构嵌入活动杆二的球形空腔并与顶杆二的锥形凹面接触。[0017] 进一步地，所述三位五通阀为中封式三位五通电磁阀。[0018] 与现有技术相比，本发明的有益效果为。[0019] 本发明设计了一种用于硅片残片吸附的万向吸附装置，该装置万向活动杆可实现任意角度切换，使得硅片残片吸附无死角，避免了人工进入设备吸附硅片残片，减少了对设备的污染，提高了操作人员的安全性；同时该装置可实现真空吸附与真空释放自动切换，无需操作人员手取硅片残片，提高了作业效率。附图说明[0020] 图1为本发明的一种用于硅片残片吸附的万向吸附装置的整体结构图。[0021] 图2为图1中的局部放大示意图，其中图2a为A处的内部结构放大图；图2b为活动杆一、活动杆二端部连接剖视图；图2c为B处的放大图；图2d为C处的放大图。[0022] 图3为吸附部件的结构示意图。[0023] 图4为动力控制部件的结构示意图。[0024] 附图标记[0025] 101?吸附按钮、102?释放按钮、103?握把、104?活动杆一、105?顶杆一、106?活动杆二、107?顶杆二、108?夹紧轴、109?梅花旋钮、201?气腔、202?真空快插接头、203?排水孔、204?压缩空气快插接头、301?压缩空气气源、302?三位五通阀、303?节流阀、304?真空发生器套组。具体实施方式[0026] 下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整的描述，但并不意味着对本发明保护范围的限制。[0027] 本发明所提供的一种用于硅片残片吸附的万向吸附装置包括：万向活动杆、与万向活动杆连接的吸附部件、控制吸附部件的吸附和释放的动力控制部件。[0028] 如图1所示，万向活动杆包括握把103、与握把103连接的活动杆一104、与活动杆一104连接的活动杆二106；活动杆一104与活动杆二106通过夹紧轴108连接，活动杆一104与活动杆二106之间的夹角可调。[0029] 如图2所示，活动杆一104沿其轴向贯通且一端呈球形空腔，另一端为贯穿孔；顶杆一105安装在活动杆一104内部；活动杆二106沿其轴向贯通且一端呈球形空腔，另一端为贯穿孔，顶杆二107安装在活动杆二106内部；顶杆一105、顶杆二107的一端为锥形凸面结构，另一端为锥形凹面结构；夹紧轴108两端呈锥形斜面，中间为贯穿孔，夹紧轴108两端分别设置梅花旋钮109，两梅花旋钮109通过长螺栓连接，该两个梅花旋钮109端部分别呈锥形斜面，当两个梅花旋钮109旋紧时，梅花旋钮的锥形斜面与夹紧轴的锥形斜面距离减。沟枚ジ艘105、顶杆二107的锥形凸面与夹紧轴108的锥形斜面、梅花旋钮109的锥形斜面相接触，实现活动杆一104与活动杆二106锁紧。[0030] 如图3所示，吸附部件包括气腔201、真空快插接头202、排水孔203、压缩空气快插接头204，真空吸盘205，真空吸盘205安装在气腔201的壁面，真空快插接头202、压缩空气快插接头204安装在气腔201上与真空吸盘205相反侧的壁面，排水孔203安装在气腔201靠近端部位置的壁面上，开口朝下并通过内六角螺栓堵塞。[0031] 气腔201内部镂空，一端为球头结构，该球头结构嵌入活动杆二106球形空腔与顶杆二107的锥形凹面接触。[0032] 如图4所示，动力控制部件包括压缩空气气源301、三位五通阀302，节流阀303、真空发生器套组304，压缩空气气源301连接三位五通阀302的进气孔，节流阀303、真空发生器套组304连接三位五通阀302的出气孔；节流阀303延伸出的气管连接压缩空气快插接头204，真空发生器套组304延伸出的气管连接真空快插接头202。其中，三位五通阀302优选为中封式三位五通电磁阀。[0033] 如图1、2所示，握把103上安装有吸附按钮101和释放按钮102，作为动力控制部件控制吸附和释放的开关。握把103前端为球头结构，该球头结构嵌入活动杆一104球形空腔并与顶杆一105的锥形凹面接触。[0034] 本发明的万向吸附装置的工作过程为：[0035] 在进行硅片残片吸附时，将万向活动杆调节至适合的角度，操作人员手持握把将真空吸盘贴近硅片残片，按下握把上的吸附按钮，此时三位五通阀一端得电，压缩空气经由三位五通阀得电一侧流向真空发生器套组，经由真空发生器套组后，压缩空气转化为真空，通过真空快插接头到达真空吸盘，实现真空吸附。在硅片残片吸附完成后，将万向活动杆移动到合适位置，按下握把上的释放按钮，此时三位五通阀另一端得电，压缩空气经由三位五通阀得电一侧，流向节流阀，通过压缩空气快插接头到达真空吸盘，实现真空释放，将硅片残片吹落真空吸盘。[0036] 本发明的万向吸附装置中设置的万向活动杆可实现任意角度切换，使得硅片残片吸附无死角，避免了人工进入设备吸附硅片残片，减少了对设备的污染，提高了操作人员的安全性；同时该装置可实现真空吸附与真空释放自动切换，无需操作人员手取硅片残片，提高了作业效率。

专利地区：山东

专利申请日期：2024-03-20

专利公开日期：2024-11-22

专利公告号：CN118204946B